一、好组件，，，，，，不怕遮挡。。。。Hi-MO X10接纳行业最先进的HPBC 2.0电池手艺，，，，，，效率凌驾26.6%，，，，，，同时，，，，，，HPBC2.0手艺接纳新型半片工艺，，，，，，镌汰切片损失和边沿泄电;HPBC 2.0还接纳双极复合钝化手艺和类旁路二极管结构，，，，，，让组件更耐紫外线，，，，，，更低衰减和无惧阴影遮挡。。。。 二、用泰睿，，，，，，抗隐裂更好。。。。Hi-MO X10接纳yp街机自研的泰睿硅片，，，，，，是硅片领域近十年最大立异。。。。该硅片纯度更高，，，，，，杂质更低，，，，，，首年衰减仅为1%，，，，，，线性衰减0.35%，，，，，，温度系数为-0.26%/℃。。。。同时，，，，，，泰睿硅片电阻匀称漫衍，，，，，，镌汰电流消耗，，，，，，强度比通俗硅片提升16%，，，，，，抗断裂能力更强，，，，，，抗隐裂性能大幅提升。。。。 三、0BB手艺，，，，，，吸光多发电更多。。。。Hi-MO X10不但正面因无栅线实现更多吸光效果，，，，，，并且背面栅线还接纳0BB手艺，，，，，，让正面和背面都能够实现最大限度的吸光效果，，，，，，实现更多发电。。。。同时，，，，，，Hi-MO X10的0BB手艺使得电流导通路径更短，，，，，，电池应力漫衍越发匀称，，，，，，最终实现电流的衰减更低和电池片的抗隐裂性能更强。。。。